3 小时之前 · 光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描（cryo-electron …...
2025年2月24日 · 我国芯片领域有新突破！ 北京大学物理学院现代光学研究所王剑威和龚旗煌课题组与山西大学苏晓龙课题组合作，成功实现了全球首例基于集成光量子芯片的“连续变量”量子 …...
2025年4月3日 · 该成果突破二维半导体电子学工程化瓶颈，首次实现5900个晶体管的集成度，是由复旦团队完成、具有自主知识产权的国产技术，使我国在新一代芯片材料研制中占据先发优 …...
1 小时前 · 为解决这一难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。 他们最终合成了一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，克服了传统技术无法原位、三维、高分辨率 …...
15 小时之前 · 为破解难题，研究团队首次将冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域。 研究人员最终合成出一张分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”，一举克服了传统技术无法原位、三维、 …...
3 小时之前 · 首次！中国芯片领域取得新突破光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断 …...
光刻胶领域，我国取得新突破 2025年10月25日 20:02 每日经济新闻 新浪财经APP 举报 缩小字体 放大字体 收藏 微博 微信 分享 11
15 小时之前 · 来源：科技日报 新方法“透视”光刻胶微观行为 可显著减少芯片光刻缺陷 光刻技术是推动 集成电路 芯片制程工艺持续微缩的核心 驱动力 之一。近日，北京大学化学与分子工程学 …...
2025年6月26日 · 近日，东南大学电子科学与工程学院张彤团队首次研制了采用光学真延时方案的薄膜铌酸锂基四通道4-bit集成微波光子波束形成芯片，完成了从结构设计到晶圆级芯片制备、 …...
2025年10月16日 · 记者15日从清华大学获悉，该校电子工程系方璐教授团队在智能光子领域取得重大突破，成功研制出全球首款亚埃米级快照光谱成像芯片“玉衡”，标志着我国智能光子技术在 …...